新標準型 EUV 部分採 High-NA EUV 技術，提高曝光效率逾 20%

荷蘭媒體 Bits & Chips 報導，曝光機大廠 ASML 確認，新標準型 0.33 NA EUV 曝光機 NXE:3800E 導入部分 High-NA EUV 技術，工作效率提升。